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原位红外漫反射系统_原位红外反应系统

发布日期:2024-10-29 阅读量:306

        原位红外漫反射系统

         原位红外反应系统是利用傅里叶变换红外光谱仪对催化剂或物料在多环境下的性能进行原位评价的设备。可方便地跟踪鉴定反应中间态和产物,从而为催化反应体系反应机理的考察给出直接的证据。原位红外漫反射主要用于气固相催化的表征和催化反应的研究,如催化剂表面羟基的鉴别、催化剂表面物种吸附态研究、催化剂表面酸碱性的表征。该反应系统可应用于真空到高压环境,温度高达500°C(真空下),是研究多相催化、气固相互作用、光化学反应和氧化机理等方向的理想选择。目前已应用于光催化降解气相有机物、热催化(CO+H2、CO2+H2)等领域的气固界面反应的红外光谱研究。

      原位红外漫反射系统.jpg

高温高压漫反射池:

池体主要采用316L不锈钢材质,最高耐温500℃,耐压3Mpa;/  哈氏合金材质,最高耐温800℃,耐腐蚀;

反应池可以配备高精度触摸屏温控仪进行精确控温和加热,同时利用冷却循环装置对反应池外部进行降温;

反应池腔帽有三个窗口,其中两个为红外窗口,另一个为石英窗口,用于引入外部光源(光催化激发光源)或作为观察窗口使用;

提供三个入口/出口,用于抽空池体和引入气体,可在反应池中形成VOCs、CO2等反应气,反应尾气先通入安全瓶再经特定溶液吸收后排至室外,各路气体均通过质量流量计来控制流量,反应气路操作界面方便友好,易于操作;

可定制各类光学窗口,可选配高温拉曼池盖。

高温高压漫反射.jpg

高低温漫反射池:

设计温度:-150℃~300℃;

设计压力:负压(-150℃~RT),3MPa(RT~300℃);

池体材质:池体池盖 316L; 

窗片材质:石英;

温控装置:程序控温、触摸屏操作(含配套软件);

装置设置进出气口,可通入气体;

预留水冷接口,配水冷机,对池体外侧温度进行保护;

配备液氮罐液氮泵,控制液氮流速;

需配机械泵/分子泵及相应管路配件,抽真空(降低窗片结霜情况及保护低温区);

配气体吹扫管路,在池体外侧进行氮气吹扫。

高低温漫反射.jpg

等离子体漫反射池:

设计温度:常温/RT~300℃;

设计压力:常压;

产品材质:PEEK+陶瓷;

光照窗片:石英;

红外窗片:ZnSe*2;

电极:中心高压铜电极、环形铜电极;

装置设置进出气口,可通入气氛。

等离子体漫反射.jpg

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